マスク製造装置
マスク露光装置
2017年6月30日更新

日本
(株)ナノシステムソリューションズ マスクレス露光装置
日本電子(株) 電子ビーム描画装置
(株)ニューフレアテクノロジー 電子ビームマスク描画装置New
アメリカ合衆国
Applied Materials, Inc. ALTA4700 Plus
アプライドマテリアルズジャパン(株)
ドイツ連邦共和国
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH フォトマスク製造
(株)日本レーザー
Vistec Electron Beam GmbH Mask Writing

    
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2000年8月27日制定