２００５年１１月２日更新（サンプル版）
■JSR(株) 　　JSR Polishing Slurry for Oxide CMP／CMS1101,1102 ■(株)エム・エー・ティNew 　　精密研磨材 ■昭和電工(株)New 　　セラミック事業部・鏡面研磨剤 ■日立化成工業(株) 　　TEOS,STI用CMPスラリー／GPX ■日の本研磨材(株) 　　研磨微紛 　　超微紛研磨材 　　研磨材	■(株)フジミインコーポレーテッド 　　CMPスラリー 　　ポリッシング材 　　ラッピング材 ■ローデル・ニッタ(株)／ニッタ(株) 　　半導体ウエハー用研磨クロス 　　半導体ウエハー用研磨材 ■EKC Technology, Inc. 　　CMP　BUSINESS　UNIT
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