半導体製造装置 ALD装置 ２０１９年９月１６日更新

東京エレクトロン(株) ALD装置/NT333 日本   JSWアフティ(株)New ALD装置 (株)エイチ・ティー・エル ALD装置 サムコ(株) ALD装置 (株)昭和真空 ALDシリーズ (株)菅製作所 ALD装置 東京エレクトロン(株) ALD装置/NT333 アメリカ合衆国 Anric Technologies AT-400 ALDジャパン(株) ALD Nanosolutions Technology Applied Materials, Inc. ALD アプライドマテリアルジャパン(株) Arradiance, Inc. ALD Syatem ASM International ALD 日本エー・エス・エム（株） CVD Equipment Corporation . Entegris、Inc. . FORGE NANO . Kurt J. Lesker Company Atomic Layer Depsiton SVS Associates, Inc. Atomic Layer Depsiton Ultratech/CNT ALD Syatem Veeco Instruments Inc. . 英国 Oxford Instruments ALD オックスフォード・インストゥルメンツ(株) オランダ王国 ASM International ALD Levitech BV ALD レビテックジャパン(株) SoLay Tech . 大韓民国 iSAC Research ALD アドバンスト エクィップメント MP(株) NCD Co., Ltd. Lucida Sseries ALD ドイツ連邦共和国 AIXTRON SE Products/ALD SENTECH Instruments GmbH Atomic Layer Depsiton フィンランド共和国 Beneq Atomic Layer Depsiton Picosun Oy. ALD成膜装置 PICOSUN JAPAN(株) フランス共和国 Encapsulix Products

ご意見・連絡　　TOPページへ　　前のページヘ

2017年5月12日制定