半導体製造装置
RTP装置
2017年9月14日更新

日本
(株)SCREENホールディング 熱処理装置
 (株)SCREENセミコンダクターソリューション
  (株)テックインテック ランプアニール装置
アドバンス理工(株) RTA装置
ウシオ電機(株) 光加熱装置
光洋サーモシステム(株) ランプアニール装置
(株)第一機電 高温アニール装置
ワイエイシイホールディング(株) レーザーアニーラ
 ワイエイシイビーム(株)
海外
Allwin21 Corp. 高速熱処理装置
ハイソル(株)
AnnealSys RTP
Applied Materials,Inc. 高速熱処理
アプライドマテリアルジャパン(株)
Levitech BVNew RTPNew
レビテックジャパン(株)New
Mattson Technology, Inc. ランプアニーリング装置
キヤノン
OEM Group Inc. AGHeatpulse8800
キヤノン
SEMCO Technologies RTP

    
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2000年9月18日制定