半導体製造装置
2017年10月14日更新

洗浄・乾燥装置
  ウエハ洗浄装置
(38)
  
ドライ洗浄装置(5)
  乾燥装置(10)
  ウエハスクラバ
(11)

酸化・拡散・LPCVD装置
  酸化・拡散装置(16)
  LPCVD装置(17)
  アニーリング装置
(14)
  RTP装置
(21)

イオン注入装置
  中電流イオン注入装置
(8)
  高電流イオン注入装置(8)
  高エネルギーイオン注入装置
(8)
  低エネルギーイオン注入装置(5)
  

レジスト除去装置
  アッシング装置
(23)
  ウェットレジスト除去装置
(10)
コーター・デベロッパー
  コータ/デベロッパ(21)
  ベークキング装置(5)
  UVキュアー装置(2)


露光装置
  ステッパー・スキャナー(12)
  マスクアライナー
(12)New
  電子ビーム露光装置
(7)
  レーザー露光装置他(4)

エッチング装置
  シリコンエッチャー(15)
  ポリシリコンエッチャー
(13)
  酸化膜エッチャー(13)
  メタルエッチャー
(8)
  各種材料エッチャー
(26)
  ウェットエッチング装置(16)

ナノインプリント装置
  ナノインプリント装置(22)


絶縁膜用装置
  常圧CVD装置(7)
  プラズマCVD装置(16)
  高密度プラズマCVD装置(12)
  絶縁蒸着装置
(4)

絶縁膜用コーター
  SOG・Lowk・SODコータ(3)

CMP関連装置
  CMP装置(13)
  CMP後洗浄装置
(7)
  スラリー供給装置(9)
  スラリー回収装置
(5)
  CMP検査装置(4)

メタル用装置
  スパッタリング装置
(14)
  メタルCVD装置(9)
  真空蒸着装置
(4)
  めっき装置
(11)

原子層堆積装置
  ALD装置(33)


  
ご意見・連絡  TOPページヘ

2000年9月11日より人目のお客様です。