半導体製造装置 ２００８年３月１７日更新
・洗浄・乾燥装置 　　ウエハ洗浄装置New 　　ドライ洗浄装置 　　乾燥装置 　　スクラバー ・酸化・拡散・LPCVD装置 　　酸化・拡散装置 　　LPCVD装置 　　アニーリング装置 　　ＲＴＰ装置 ・イオン注入装置 　　中電流イオン注入装置 　　高電流イオン注入装置 　　高エネルギーイオン注入装置 　　低エネルギーイオン注入装置 　　酸素イオン注入装置他	・コーター・デベロッパー 　　コーターデベロッパー 　　ベークキング装置 　　UVキュアー装置 　　周辺露光装置 ・露光装置 　　ステッパー・スキャナー 　　マスクアライナー 　　電子ビーム露光装置 　　X線露光装置他 ・エッチング装置 　　シリコンエッチャー 　　ポリシリコンエッチャー 　　酸化膜エッチャー 　　メタルエッチャー 　　各種材料エッチャー ・レジスト除去装置 　　アッシング装置 　　ウェットレジスト除去装置	・絶縁膜用装置 　　常圧CVD装置 　　プラズマCVD装置 　　高密度プラズマCVD装置 　　絶縁蒸着装置 ・絶縁膜用コーター 　　SOG・Lowk・SODコーター ・CMP関連装置 　　CMP装置New 　　CMP後洗浄装置 　　スラリー供給装置 　　スラリー回収装置 　　CMP検査装置 ・メタル用装置 　　スパッタリング装置 　　メタルCVD装置 　　真空蒸着装置 　　めっき装置
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