半導体製造装置
各種材料エッチャー
2008年7月22日更新
(株)アルバック
エッチング装置/ULHITE NE-7800H
(株)エスクラフト
New
枚様式プラズマ処理装置
New
サイエンステクノロジー(株)
取り扱い製品
サムコ(株)
ICPエッチング装置
芝浦メカトロニクス(株)
イオンエッチング装置/ICE200/ICE300
東京応化工業(株)
エッチング装置
日曹エンジニアリング(株)
SiNエッチング/NISON1800
パナソニックファクトリーソリューションズ(株)
ドライエッチング装置
日立東京エレクトロニクス(株)
Wエッチバック用エッチャ/DM-471P-S
ミカサ(株)
エッチング装置
三益半導体工業(株)
スピンエッチャー
ヤマト科学(株)
プラズマ装置
ヤマト硝子(株)
プラズマクリーナー・エッチャー装置
ワイエイシイ(株)
プラズマシステム事業部
Aviza Technology, Inc.
枚葉式エッチング装置/Omega i2L
ファーストゲート(株)
Axic, Inc
ICP SI-500
(株)ユニバーサルシステムズ
FSI International, Inc.
窒化膜エッチング用洗浄・エッチングシステム
エム・エフエスアイ(株)
Mattson Technology, Inc.
Aspen V ICPHT/Highlands
Unaxis Corp.
Shuttlelock
/
Shuttleline
Unaxis Wafer Processing
Plasma Quest
ECR高密度プラズマ・エッチング装置
グンゼ産業(株)
SEZ AG
SPINPROCESSOR/SEZ102
日本エスイーゼット(株)
Sosul Co.
EXTRIMA6000
/
EXTRIMA3100Plus
ファーストゲート(株)
Surface Technology Systems Ltd.
MULTIPLEX-ICP
住友精密工業(株)
Tegal Corp.
6500Etch
/
980ACS Etch
/
900ACS Etch
Tru-Si Technologies
Veeco Instruments Inc.
NEXUS IBMシステム
日本ビーコ(株)
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2000年11月13日より
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