半導体製造装置
各種材料エッチャー
2008年7月22日更新

(株)アルバック エッチング装置/ULHITE NE-7800H
(株)エスクラフトNew 枚様式プラズマ処理装置New
サイエンステクノロジー(株) 取り扱い製品
サムコ(株) ICPエッチング装置
芝浦メカトロニクス(株) イオンエッチング装置/ICE200/ICE300
東京応化工業(株) エッチング装置
日曹エンジニアリング(株) SiNエッチング/NISON1800
パナソニックファクトリーソリューションズ(株) ドライエッチング装置
日立東京エレクトロニクス(株) Wエッチバック用エッチャ/DM-471P-S
ミカサ(株) エッチング装置
三益半導体工業(株) スピンエッチャー
ヤマト科学(株) プラズマ装置
ヤマト硝子(株) プラズマクリーナー・エッチャー装置
ワイエイシイ(株) プラズマシステム事業部
Aviza Technology, Inc. 枚葉式エッチング装置/Omega i2L
ファーストゲート(株)
Axic, Inc ICP SI-500
(株)ユニバーサルシステムズ
FSI International, Inc. 窒化膜エッチング用洗浄・エッチングシステム
エム・エフエスアイ(株)
Mattson Technology, Inc. Aspen V ICPHT/Highlands
Unaxis Corp. ShuttlelockShuttleline
Unaxis Wafer Processing
Plasma Quest ECR高密度プラズマ・エッチング装置
グンゼ産業(株)
SEZ AG SPINPROCESSOR/SEZ102
日本エスイーゼット(株)
Sosul Co. EXTRIMA6000EXTRIMA3100Plus
ファーストゲート(株)
Surface Technology Systems Ltd. MULTIPLEX-ICP
住友精密工業(株)
Tegal Corp. 6500Etch980ACS Etch900ACS Etch
Tru-Si Technologies
Veeco Instruments Inc. NEXUS IBMシステム
日本ビーコ(株)

    
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